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집속 이온빔 주사 전자 현미경
집속 이온빔 주사 전자 현미경
기기 설명
장비명(약어) Focused Ion Beam-Field Emission Scanning Electron Microscope (FIB-FESEM)
모델명 Scios
브랜드 FEI
위치 신소재공학관 B2 230호
담당자 김세빈 sebinee99@hanyang.ac.kr
담당자 전화번호 02-2220-1348
기기상태 예약가능
인쇄하기목록으로

원리와 특징
재료 내부 구조 분석, 금속 석출상, 개재물 등 분포 분석 금속/세라믹/전자/분말 소재의 투과전자현미경(TEM) 샘플 제작 품질 문제 대응 및 신소재, 신기술 분야 재료 미세구조 분석

사양

1. NiCol UHR Non-Immersion FESEM Column System

     1) High resolution field emission-SEM column 

       - High stability Schottky field emission gun

       - Automated heated apertures

       - Continuous beam current control and optimized aperture angle

       - Double stage scanning deflection

       - Dual objective lens combining electromagnetic and electrostatic lenses

       - Beam current range : 1 pA to 400 nA

       - Accelerating voltage range : 200 eV – 30 keV

     2) Electron Beam Resolution at Optimum Working Distance

       - High vacuum imaging At optimum WD

         · 0.8 nm at 30 keV STEM

         · 1.6 nm at 1 keV
     

2. Focused Ion Beam System

      1) Sidewinder Ion Column

       - High-current gallium liquid metal ion source

       - Acceleration voltage : 500 V – 30 kV

       - Probe current : 0.6 pA – 65 nA in 15 steps

      2) Ion Beam resolution

       - High vacuum imaging, optimum WD

        · 3.0 nm (statistics over 50 edges)

        · 5.0 nm (statistics over 1000's of edges)

 

3. Accessories

      - Analysis : Energy Dispersive Spectrometer (EDS)

      - Deposition Source : Platinum (Pt), Carbon (C)

 

4. Stage Specifications

      - Type : Eucentric goniometer stage, 5-axes motorized

      -  XY : 110 × 110 mm

      -  Repeatability : < 2.0 µm (@ 0° tilt)

      -  Motorized Z : 65 mm

      -  Rotation : n × 360°

      -  Tilt : -15° / +90°

      -  Max. sample height : Clearance 85 mm to eucentric point

      -  Max. sample weight : 500 g in any stage position (up to 2 kg at 0° tilt)

      -  Max. sample size : 150 mm with full rotation (larger samples possible with limited rotation)

 

 

사용료

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